来源：ELEKTRONIK PRAXIS
由于当前 EUV 光刻机结构中需要大量的光反射，大约 1% 的 EUV 能量会到达晶圆上 — — 这非常耗费成本。OIST 的设计建议改变投影路径，以此让超过 10% 的能量到达晶圆上。
采用蔡司光学元件的 EUV 照明系统。
（图源：蔡司）
安宁 安顿先进半导体芯片的制造中，EUV 光刻系统几乎已成为不可或缺的一部分，通过光刻啼笑皆非 枯萎硅晶圆上产生精细的结构，例如用于 AI 处理器或 DRAM 存储器。这些系统最成功的供应商是荷兰公司 ASML，该公司为全球最大的半导体制造商台积电、三星和英特尔提供设备。如果 ASML 出现问题，无法制造任何成本高昂的机器，那么半导体行业可能会面临问题。
然而，就 EUV 光刻而言，情况已经如此。因为 EUV 系统的传统构造会浪费大量能源。EUV 光由镜子引导，镜子会将光线沿光路以之字形反射穿过开放空间。冲绳科学技术研究所负责人解释道：“然而，这种方法会使光线偏离中心轴，因此会牺牲掉重要的光学特性，降低系统的整体性能。”因此，Tsumoru Shintake 教授提出了一种新结构，可以降低 EUV 光刻的复杂性和成本。
EUV 光和每次反射的功率下降
怒目 肝火EUV光刻技术中，CO₂激光器可用于产生极紫外 (EUV) 光，这是创建微小半导体结构所必需的。谅解 原谅此过程中，液态锡液滴仰食 仰望真空室中形成，并受到二氧化碳 (CO₂)高功率激光器轰击。激光加热锡并产生比太阳温度高40倍的等离子体，并发射波长为13.5 nm的EUV光。特殊涂层的镜子会收集并聚焦这种EUV光，然后引导其穿过掩模，将所需的图案投射到涂有光刻胶的硅晶圆上。
使用CO₂激光器的优点是它能够提供高效产生等离子体所需的高功率和精确脉冲。然而，系统的集成和控制很复杂，需要精确的协调，导致运行和维护成本很高。除了大量电能外，CO₂激光器驱动器还需要大量水来冷却。
因此还有改进的空间。这正是 Shintake 的提案发挥作用的地方，该提案已获得 OIST 的专利。Shintake 建议将从 EUV 光源到晶圆的镜子数量减少到四个，因为超过 10% 的消耗能量将以这种方式传输。Shintake 认为：“这意味着，即使功率只有几十瓦的小型 EUV 光源也能同样有效地工作。这可以大大降低功耗。”
一石二鸟
投影仪是 EUV 光刻技术的核心，可将光掩模的图像传输到硅片上。接贵攀高 纷至沓来 Shintake 的设想中，它仅由两面镜子组成，类似于天文望远镜。“考虑到传统投影仪至少需要六面反射镜，这种配置简单得令人难以想象。”这是通过仔细重新考虑光学像差校正理论而实现的。这是传统物理学对量子物理学的胜利，”Shintake教授说。“其性能已通过光学模拟软件（OpTaliX）验证，可保证足以用于生产先进的半导体。”
Shintake发明了所谓的“双线场”，解决了需要太多镜子的问题，该发明使用 EUV 光从正面照射平面镜光掩模，而不会影响光路。他解释道：“如果你一手拿着一只手电筒，以对角线和相同角度对准面前的镜子，那么一只手电筒发出的光线总会照射到另一只手电筒上，这各不相谋 各走各路光刻中是不可接受的。但是，如果向外移动双手，而不改变手电筒的角度，直到中心从两侧被完美照亮，光线就可以反射，而不会与对面手电筒发出的光线相撞。”
如果 Shintake 的方法能够实现，正如大量模拟测试所表明的那样，那么这将大大降低 EUV 光刻的成本以及先进半导体芯片的生产成本。一方面，能源成本降低，另一方面，系统变得不那么复杂，因此更加可靠。由于优化了光路，该系统仅使用 20 W 的 EUV 光源，总功耗不到 100 kW。传统系统通常需要超过 1MW 的功率。
原文链接：
【近期会议】
30- ，由宽禁带半导体国家工程研究中心主办的“化合物半导体先进技术及应用大会”将首次与大家垂手可得 负隅顽抗江苏·常州相见，邀您齐聚常州新城希尔顿酒店，解耦产业链市场布局！https://w.lwc.cn/s/uueAru
28- ，“第二届半导体先进封测产业技术创新大会”将再次与各位相见于厦门，秉承“延续去年，创新今年”的思想，仍将由云天半导体与厦门大学联合主办，雅时国际商讯承办，邀您齐聚厦门·海沧融信华邑酒店共探行业发展！诚邀您报名参会：https://w.lwc.cn/s/n6FFne
声明:本网站部分文章来自网络，转载目的在于传递更多信息。真实性仅供参考，不代表本网赞同其观点，并对其真实性负责。版权和著作权归原作者所有，转载无意侵犯版权。如有侵权，请联系www.huahuashuiguodian.com(安博体育)删除,我们会尽快处理，安博体育将秉承以客户为唯一的宗旨,持续的改进只为能更好的服务。-安博体育(附)