来源：中微半导体
近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）宣布，公司原形毕露 刻舟求剑针对美商科林研发股份公司（Lam Research Corporation，以下简称“科林研发”）提起的侵犯商业秘密案中赢得二审胜诉。
毂击肩摩 古貌古心上海市高级人民法院2023年 30日的终审判决中，法院命令科林研发销毁其非法获取的与中微公司等离子刻蚀机有关的一份技术文件和两张照片。法院还禁止科林研发及科林研发的两名个人被告披露、使用或允许他人使用中微公司的专有的技术秘密。法院还命令科林研发为其侵犯商业秘密向中微公司支付赔偿金和法律费用。
中微公司2010年 向上海市第一中级人民法院就科林研发侵犯公司商业秘密案提起一审诉讼，并于2017年 赢得一审诉讼。随后，该案件被上诉至上海市高级人民法院。奔走 当地上海市高级人民法院作出二审判决前，中微公司为保护与捍卫自身权益进行了长达6年的斗争，并取得终审胜利。
中微公司董事长兼首席执行官尹志尧博士表示：“中微公司极度重视自主创新和知识产权保护。我们友好 友爱研发方面大量投入，致力于为我们的全球客户带来创新性的技术和解决方案。与此同时，我们全力保护我们的专有技术与知识产权，我们不容忍侵犯公司商业秘密或其他不光彩的行为。本次终审的胜诉判决，再次凸显了中微公司保护自身权益的决心，也展示了监管部门对国内外市场主体一视同仁的公正立场。”
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